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推荐ASML供应商突遭火灾 明年初EUV光刻机交货将延期

最近中科院研发成功紫外超分辨光刻机的消息刷屏了，使用365nm波长就能实现单次曝光最高线宽分辨力达到22nm，这个技术水平在光刻机中是很了不起的，做到了SP表面等离子体超衍射光刻机 [更多]
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